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数学填空题,但要写出过程若x:y:z=2：(-1):1,则x+2y-z/2x-y+z=若k=a-2b/c=b-2c/a=c-2a/b,且a+b+c≠0,则k的值为若k=（a-2b)/c=(b-2c)/a=(c-2a)/b，且a+b+c≠0，则k的值为数学

已知二次函数y=-（x+k）2+h，当x>-2时，y随x的增大而减小，则函数中k的取值范围是（）A.k≥-2B.k≤-2C.k≥2D.k≤2 数学

已知极限limx→0x−arctanxxk＝c，其中k，c为常数，且c≠0，则（）A．k＝2，c＝−12B．k＝2，c＝12C．k＝3，c＝−13D．k＝3，c＝13 其他

—、积累运用-试一试1.下列加点字注音完全正确的一项是()A.中举(Jǔ)亲家(QìnG)痕疫(wēn)磕头(kē)B.行事(hánG)规矩(Jù)带挈(qì)报帖(tiě)C.作揖(Yī)解元(Jiě)斋公(zhāD 其他

兀自(wù) D. 名讳

下列各组词语中加点的字的注音，完全正确的一组是（）A．漂（piào）洗纤（qiān）悉无遗违拗（ào）溘（kè）然长逝B．道行（héng）拾（shè）级而上伺（Cì）侯徇（xùn）私语文

án）射愤世嫉（jí）俗

电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g)其△H（298K）==-94.0kJ·mol-1△S(298K)==-75.8J·mol-1·K-1设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应自发进行的化学

求此反应自发进行的温度条件。

（1）工业清洗硅片上SiO2（s）的反应是：SiO2（s）+4HF（g）═SiF4（g）+2H2O（g）△H（298.15K）=-94.0kJ•mol-1，△S（298.15K）=-75.8J•mol-1•K-1，△H和△S不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度其他

______；（2）对反应2

Rt△ABC的三个顶点A，B，C均在抛物线y=x2上，并且斜边AB平行于x轴.若斜边上的高为h，则（）A.h＜1B.h=1C.1＜h＜2D.h＞2 数学

for循环执行顺序c代码main(){for(i=0;i<6;i++&&k++)printf("%2d%2d",i,k);printf("\n");i=0;k=0;for(i=0;i<6;i++){printf("%2d%2d",i,k);k++;}}执行后的结果是这样其他

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