（1）工业清洗硅片上SiO2（s）的反应是：SiO2（s）+4HF（g）═SiF4（g）+2H2O（g）△H（298.15K）=-94.0kJ•mol-1，△S（298.15K）=-75.8J•mol-1•K-1，△H和△S不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度

Question

（1）工业清洗硅片上SiO₂（s）的反应是：SiO₂（s）+4HF（g）═SiF₄（g）+2H₂O（g）△H（298.15K）=-94.0kJ•mol^-1，△S（298.15K）=-75.8J•mol^-1•K^-1，△H和△S不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度范围是______；
（2）对反应2NO₂（g）═N₂O₄（g）△H＜0，在温度T₁、T₂时，平衡体系N₂O₄的体积分数随压强的变化曲线如图所示，则T₁______T₂（填“＞”或“＜”）；增大压强，平衡向______反应方向移动；B、C两点的平衡常数B______C（填“＞”或“＜”）．

Answer 1

（1）如果△G=△H-T△S＜0，则该反应能自发进行，所以T＜(△H)/(△S)=(−94.0)/(75.8×10−3)K=1240K，
故答案为：＜1240K；
（2）相同压强时，温度越高，平衡向逆反应方向移动，则四氧化二氮的物质的量减小，所以T₁＜T₂；
相同温度时，增大压强平衡向正反应方向移动，四氧化二氮的体积分数减小；
温度越高，平衡向逆反应方向移动，则生成物浓度越小、反应物浓度越大，所以化学平衡常数减小，T₁＜T₂，所以B的平衡常数大于C点，
故答案为：＜；正；＞．