2011年，瑞士洛桑联邦工学院无理学家发现后用一种辉钼（MoS2）单分子层材料制造半导体，比传统硅材料和富勒烯更有优势．工业上用辉钼矿冶炼钼的化学原理：①2MoS2+7O2高温2MoO3+4SO2

Question

2011年，瑞士洛桑联邦工学院无理学家发现后用一种辉钼（MoS₂）单分子层材料制造半导体，比传统硅材料和富勒烯更有优势．工业上用辉钼矿冶炼钼的化学原理：
①2MoS₂+7O₂

高温

2MoO₃+4SO₂                 ②MoO₃+2NH₃•H₂O═（NH₄）₂MoO₄+H₂O
③（NH₄）₂MoO₄+2HCl═H₂MoO₄↓+2NH₄Cl           ④H₂MoO₄═MoO₃+H₂O
⑤用还原剂将MoO₃还原成金属钼，下列说法正确的是（　　）

A. MoS₂煅烧产生的尾气可直接排到空气中

B. MoO₃不溶于氢氧化钠溶液

C. H₂MoO₄是一种强酸

D. 利用H₂、CO和Al分别还原等量的MoO₃，消耗还原剂的物质的量之比为3：3：2

Answer 1

A．从反应①看，MoS₂煅烧后的产物中有SO₂，它是大气污染物，因此尾气不能直接排入空气中，故A错误；
B．由反应②可知，MoO₃属于酸性氧化物，溶于氢氧化钠，故B错误；
C．由反应④可知，H₂MoO₄是一种弱酸，故C错误；
D．还原等量的MoO₃，转移电子数相同，若转移6mol电子，需要还原剂物质的量之比为3：3：2，故D正确；
故选D．