2011年,瑞士洛桑联邦工学院无理学家发现后用一种辉钼(MoS2)单分子层材料制造半导体,比传统硅材料和富勒烯更有优势.工业上用辉钼矿冶炼钼的化学原理:①2MoS2+7O2高温2MoO3+4SO2
2011年,瑞士洛桑联邦工学院无理学家发现后用一种辉钼(MoS2)单分子层材料制造半导体,比传统硅材料和富勒烯更有优势.工业上用辉钼矿冶炼钼的化学原理:
①2MoS2+7O2
2MoO3+4SO2 ②MoO3+2NH3•H2O═(NH4)2MoO4+H2O高温
③(NH4)2MoO4+2HCl═H2MoO4↓+2NH4Cl ④H2MoO4═MoO3+H2O
⑤用还原剂将MoO3还原成金属钼,下列说法正确的是( )
A. MoS2煅烧产生的尾气可直接排到空气中
B. MoO3不溶于氢氧化钠溶液
C. H2MoO4是一种强酸
D. 利用H2、CO和Al分别还原等量的MoO3,消耗还原剂的物质的量之比为3:3:2
B.由反应②可知,MoO3属于酸性氧化物,溶于氢氧化钠,故B错误;
C.由反应④可知,H2MoO4是一种弱酸,故C错误;
D.还原等量的MoO3,转移电子数相同,若转移6mol电子,需要还原剂物质的量之比为3:3:2,故D正确;
故选D.
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