近年，我国电子工业迅速发展，造成了大量的电路板刻蚀废液的产生和排放。刻蚀液主要有酸性的(HCl­H2O2)、碱性的(NH3­NH4Cl)以及传统的(HCl­FeCl3)等三种，刻蚀废液中含有大量的Cu2＋，

Question

近年，我国电子工业迅速发展，造成了大量的电路板刻蚀废液的产生和排放。刻蚀液主要有酸性的(HCl­H₂O₂)、碱性的(NH₃­NH₄Cl)以及传统的(HCl­FeCl₃)等三种，刻蚀废液中含有大量的Cu^2＋，废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种刻蚀废液的常见处理方法如图：

(1)FeCl₃型酸性废液回收铜并使刻蚀液再生，发生的主要离子反应有Fe＋Cu^2＋===Fe^2＋＋Cu 2Fe^3＋＋Fe===3Fe^2＋，还有___________________________________________________，

___________________________________________________________(离子方程式表示)。

(2)HCl­H₂O₂型刻蚀液刻蚀Cu的过程中发生的化学反应用离子方程式可表示为：________________________________________________________________________。

(3)H₂O₂型酸性刻蚀废液回收Cu₂O过程中，所加试剂A的最佳选择是________(填序号)。

①酸性高锰酸钾溶液；②固体NaCl；③甲醛；④葡萄糖

(4)碱性刻蚀液发生的反应是：2Cu＋O₂＋4NH₄Cl＋4NH₃·H₂O===2Cu(NH₃)₄Cl₂＋6H₂O，处理碱性刻蚀废液过程中加入NH₄Cl固体并通入NH₃(g)的目的是：

________________________________________________________________________。

 

Answer 1

(1)Fe＋2H^＋===Fe^2＋＋H₂↑   2Fe^2＋＋Cl₂===2Fe^3＋＋2Cl^－

(2)Cu＋2H^＋＋H₂O₂===Cu^2＋＋2H₂O    (3)④

(4)促进溶液中的Cu(NH₃)₄Cl₂生成并结晶析出