半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅:①SiO2(s)+2C(s)═Si(s)+2CO(g)△H=+682.44kJ•mol-1,(石英砂)(粗硅)②Si(s)+2Cl2(g)═SiCl4(g)△H=-657.01kJ•mol-1
半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅:
①SiO2(s)+2C(s)═Si(s)+2CO(g)△H=+682.44kJ•mol-1,
(石英砂) (粗硅)
②Si(s)+2Cl2(g)═SiCl4(g)△H=-657.01kJ•mol-1
③SiCl4(g)+2Mg(s)═2MgCl2(s)+Si(s)△H=-625.63kJ•mol-1
(纯硅)
用石英砂生产1.00kg纯硅的总放热为( )
A. 2.43×104 kJ
B. 2.35×104 kJ
C. 2.23×104 kJ
D. 2.14×104 kJ
1.00kg纯硅n(Si)=
1000g |
28g/mol |
则生产1.00kg纯硅的总反应热为35.75mol×(-600.2kJ/mol)=-2.14×104kJ,
故选D.
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