Ⅰ．在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液（含有Fe2+、Fe3+、Cu2+）处理和资源回收很有意义．分析下面处理方案，回答下列问题：（1）试剂2是，固体B是，通往的气体C是．（

Question

Ⅰ．在FeCl₃溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液（含有Fe²⁺、Fe³⁺、Cu²⁺）处理和资源回收很有意义．分析下面处理方案，回答下列问题：

（1）试剂2是___，固体B是___，通往的气体C是___．（填化学式）．
（2）写出加入试剂1发生反应的离子方程式：___、___．
Ⅱ．综合利用海水可以制备食盐、纯碱、金属镁等物质，其流程如下图所示：

（1）反应①-⑤中，属于氧化还原反应的是___（填符号）．
（2）写出反应②的离子方程式___．
（3）X溶液中的主要阳离子是Na⁺和___．
（4）粗盐中含有Na₂SO₄、MgCl₂、CaCl₂等可溶性杂质，为制得纯净的NaCl晶体，操作如下：①溶解；②依次加入过量的BaCl₂溶液、NaOH溶液、Na₂CO₃溶液；③___；④加适量盐酸；⑤___（请补全缺少的实验步骤）．
（5）检验纯碱样品中是否含NaCl应选用的试剂是___．

Answer 1

Ⅰ．利用废液再生FeCl₃刻蚀液，应除去溶液中的Cu²⁺，废液与过量的Fe反应置换出Cu，过滤，固体A为Cu与Fe的混合物，滤液中溶质为FeCl₂，固体A与盐酸反应生成FeCl₂，过滤除去Cu，FeCl₂用氯气氧化得到FeCl₃；
（1）由上述分析可知，试剂2是HCl，固体B是Cu，通入的气体C是Cl₂，
故答案为：HCl；Cu；Cl₂；
（2）加入试剂1发生反应的离子方程式：Fe+2Fe³⁺=3Fe²⁺、Fe+Cu²⁺=Fe²⁺+Cu，
故答案为：Fe+2Fe³⁺=3Fe²⁺、Fe+Cu²⁺=Fe²⁺+Cu；
Ⅱ．将海水蒸发浓缩、冷却结晶得到粗盐和母液，向母液中加入Ca（OH）2，发生反应Mg²⁺+2OH^-=Mg（OH）₂↓，过滤得到Mg（OH）₂沉淀，将Mg（OH）₂溶于稀盐酸中发生反应Mg（OH）₂+2HCl=MgCl₂+2H₂O，将溶液蒸发浓缩、冷却结晶得到MgCl₂.6H₂O，将MgCl₂.6H₂O晶体在HCl氛围中加热得到固体
MgCl₂，电解熔融氯化镁得到Mg，发生反应为MgCl₂(通电.)/()Mg+Cl₂↑；
将粗盐提纯得到NaCl溶液，向溶液中通入氨气和二氧化碳，发生反应NaCl+NH₃+CO₂+H₂O=NaHCO₃+NH₄Cl，碳酸氢钠溶解度小于NaCl而析出，所以得到溶液X为NH₄Cl溶液，将NaHCO₃加热发生反应2NaHCO₃(△.)/()Na₂CO₃+CO₂↑+H₂O，最后得到碳酸钠固体，
（1）①石灰乳与氯化镁反应生成氢氧化镁沉淀和氯化钙，元素化合价不变，非氧化还原反应；
②氢氧化镁沉淀与盐酸反应生成氯化镁和水，元素化合价不变，非氧化还原反应；
③氯化镁溶液蒸发浓缩得到氯化镁晶体，元素化合价不变，非氧化还原反应；
④氯化镁晶体分解得到氯化镁和水，元素化合价不变，非氧化还原反应；
⑤电解氯化镁得到镁和氯气，元素化合价发生变化，氧化还原反应；
故选⑤，
故答案为：⑤；
（2）氢氧化镁沉淀与盐酸反应生成氯化镁和水，方程式为：Mg（OH）₂+2HCl=MgCl₂+2H₂O，离子方程式为：Mg（OH）₂+2H⁺=Mg²⁺+2H₂O，
故答案为：Mg（OH）₂+2H⁺=Mg²⁺+2H₂O；
（3）向氯化钠溶液中依次通入氨气、二氧化碳，发生反应：NH₃+CO₂+H₂O=NH₄HCO₃；NH₄HCO₃+NaCl=NH₄Cl+NaHCO₃↓，所以溶液中含有NH₄Cl和NaHCO₃，则溶液中的主要阳离子是Na⁺和NH₄⁺；
故答案为：NH₄⁺；
（4）首先要把粗盐溶于水形成溶液，然后镁离子用氢氧根离子沉淀，加入过量的氢氧化钠可以将镁离子沉淀，硫酸根离子用钡离子沉淀，加入过量的氯化钡可以将硫酸根离子沉淀，至于先除镁离子，还是先除硫酸根离子都行，钙离子用碳酸根离子沉淀，除钙离子加入碳酸钠转化为沉淀，Ca²⁺+CO₃^2-=CaCO₃↓，但是加入的碳酸钠要放在加入的氯化钡之后，这样碳酸钠会除去反应剩余的氯化钡，Ba²⁺+CO₃^2-=BaCO₃↓，离子都沉淀了，再进行过滤，最后再加入盐酸除去反应剩余的氢氧根离子和碳酸根离子，最后经蒸发操作得到较纯净的氯化钠；
故答案为：过滤；蒸发结晶；
（5）氯离子能和硝酸酸化的硝酸银溶液反应生成氯化银白色沉淀，所以检验纯碱样品中是否含NaCl应选用的试剂是稀硝酸、AgNO₃溶液；
故答案为：稀硝酸、AgNO₃溶液．