请回答下列问题:（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:①写出由纯制备高纯硅的化学方程式:

Question

请回答下列问题:
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷 还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯 制备高纯硅的化学方程式: ____________________________________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。 遇水剧烈反应生成 、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为___________________________; 还原 过程中若混入 可能引起的后果是____________________________________。
（2）下列有关硅材料的说法正确的是_________ (填字母)。

A．碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B．氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E．盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释                                                                                          。

Answer 1

（1）① Si+3HCl
② ↑ 发生爆炸
（2）BC
（3）有白色胶状沉淀生成,反应原理为 Na ₂ SiO ₃ + 2HNO ₃ = H ₂ SiO ₃ ↓+ 2NaNO ₃