硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图所示：（1）写出由

Question

硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：
制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图所示：

（1）写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式：

SiHCl₃+H₂(高温.)/()Si+3HCl

SiHCl₃+H₂(高温.)/()Si+3HCl

．
（2）整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式：______；
H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是______．

Answer 1

（1）氢气和纯SiHCl₃反应生成高纯硅和氯化氢：SiHCl₃+H₂(高温.)/()Si+3HCl，故答案为：SiHCl₃+H₂(高温.)/()Si+3HCl；
（2）SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和氢气：3SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃↓+H₂↑+3HCl↑，氢气遇氧气易爆炸，故答案为：SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃↓+3HCl↑+H₂↑；氧气与氢气混合，可能引起爆炸．