（2013•房山区一模）碳化硅（SiC）、氧化铝（Al2O3）和氮化硅（Si3N4）是优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域有重要用途．（1）Al的原子结构示意图为；Al与NaOH溶液反应的离子

Question

（2013•房山区一模）碳化硅（SiC）、氧化铝（Al₂O₃） 和氮化硅（Si₃N₄）是优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域有重要用途．
（1）Al的原子结构示意图为______；Al与NaOH溶液反应的离子方程式为______．
（2）氮化硅抗腐蚀能力很强，但易被氢氟酸腐蚀，氮化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐，其反应方程式为______．
（3）工业上用化学气相沉积法制备氮化硅，其反应如下：
3SiCl₄（g）+2N₂（g）+6H₂（g）

高温

Si₃N₄（s）+12HCl（g）△H＜0
某温度和压强条件下，分别将0.3mol SiCl₄（g）、0.2mol N₂（g）、0.6mol H₂（g）充入2L密闭容器内，进行上述反应，5min达到平衡状态，所得Si₃N₄（s）的质量是5.60g．
①H₂的平均反应速率是______ mol/（L•min）．
②平衡时容器内N₂的浓度是______mol•L^-1．
③SiCl₄（g）的转化率是______．
④若按n（SiCl₄）：n（N₂）：n（H₂）=3：2：6的投料配比，向上述容器不断扩大加料，SiCl₄（g）的转化率应______（填“增大”、“减”或“不变”）．
⑤在不改变反应条件的情况下，为了提高SiCl₄（g）的转化率，可通过改变投料配比的方式来实现．下列四种投料方式，其中可行的是______．

选项	投料方式
A	n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=1：1：2
B	n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=1：2：2
C	n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=3：2：2
D	n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=2：1：3

Answer 1

（1）Al原子核外电子数为13，有3个电子层，各层电子数为2、8、3，结构示意图为，铝与氢氧化钠溶液反应生成偏铝酸钠与氢气，反应离子方程式为：2Al+2OH-+2H2O=2AlO2-+3H2↑，故答案为：；2Al+2OH-+2H2O=2AlO2-+3H2↑...