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电子工业中,常用氯化铁溶液作为印刷电路铜板蚀刻液.请按要求回答下列问题:(1)若向氯化铁溶液中加入一定量的澄清石灰水,调节溶液pH,可得红褐色沉淀,该反应的离子方程式为:
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电子工业中,常用氯化铁溶液作为印刷电路铜板蚀刻液.请按要求回答下列问题:
(1)若向氯化铁溶液中加入一定量的澄清石灰水,调节溶液pH,可得红褐色沉淀,该反应的离子方程式为:___,该过程中调节溶液的pH为5,则c(Fe3+)为:___mol•L-1.(己知:Ksp[Fe(OH)3]=4.0×10-38)
(2)某探究小组设计如下线路处理废液和资源回收:

①用足量FeCl3溶液蚀刻铜板后的废液中含有的金属阳离子有:___.
②FeCl3蚀刻液中通常加入一定量的盐酸,其中加入盐酸的目的是:___.
③步骤①中加入H2O2溶液的目的是:___.
④已知:生成氢氧化物沉淀的pH
根据表中数据推测调节pH的范围是:___.
⑤写出步骤②中生成CO2的离子方程式:___(已知Cu2(OH)2CO3难溶于水)
(1)若向氯化铁溶液中加入一定量的澄清石灰水,调节溶液pH,可得红褐色沉淀,该反应的离子方程式为:___,该过程中调节溶液的pH为5,则c(Fe3+)为:___mol•L-1.(己知:Ksp[Fe(OH)3]=4.0×10-38)
(2)某探究小组设计如下线路处理废液和资源回收:

①用足量FeCl3溶液蚀刻铜板后的废液中含有的金属阳离子有:___.
②FeCl3蚀刻液中通常加入一定量的盐酸,其中加入盐酸的目的是:___.
③步骤①中加入H2O2溶液的目的是:___.
④已知:生成氢氧化物沉淀的pH
Cu(OH)2 | Fe(OH)2 | Fe(OH)3 | |
开始沉淀时 | 4.7 | 7.0 | 1.9 |
沉淀完全时 | 6.7 | 9.0 | 3.2 |
⑤写出步骤②中生成CO2的离子方程式:___(已知Cu2(OH)2CO3难溶于水)
▼优质解答
答案和解析
(1)加入氢氧化钙溶液,发生Fe3++3OH-=Fe(OH)3↓,根据氢氧化铁的Ksp表达式:Ksp=[Fe3+][[OH-]3],溶液的pH为5即[H+]=10-5mol/L,所以金属铁离子浓度为4.0×10-11 mol•L-1,
故答案为:Fe3++3OH-=Fe(OH)3↓;4.0×10-11;
(2)①氯化铁与铜反应生成氯化亚铁和氯化铜,反应的离子方程式:2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+,铁离子可能过量,故答案为:Fe3+、Fe2+和Cu2+;
②氯化铁是强酸弱碱盐水解呈酸性,所以加盐酸防止弱离子铁离子的水解,水解的方程式为:Fe3++3H2O⇌Fe(OH)3+3H+,向其中加盐酸促使平衡逆向移动,
故答案为:抑制氯化铁水解;
③加入氧化剂把亚铁离子氧化为铁离子但不能引入新的杂质,氧化剂选择过氧化氢氧化亚铁离子的离子方程式为:2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O,
故答案为:因为将Fe2+氧化成Fe3+,方便后续沉淀时除去;
④调节溶液的pH目的是使铁离子全部沉淀,铜离子不沉淀,依据图表数据分析可知pH应为:3.2~4.7,故答案为:[3.2,4.7)或3.2≤pH<4.7;
⑤用碱式碳酸铜来调节溶液的PH,强制弱,所以离子反应方程式为:4H++Cu2(OH)2CO3 =3H2O+2 Cu2++CO2↑,
故答案为:4H++Cu2(OH)2CO3 =3H2O+2 Cu2++CO2↑.
故答案为:Fe3++3OH-=Fe(OH)3↓;4.0×10-11;
(2)①氯化铁与铜反应生成氯化亚铁和氯化铜,反应的离子方程式:2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+,铁离子可能过量,故答案为:Fe3+、Fe2+和Cu2+;
②氯化铁是强酸弱碱盐水解呈酸性,所以加盐酸防止弱离子铁离子的水解,水解的方程式为:Fe3++3H2O⇌Fe(OH)3+3H+,向其中加盐酸促使平衡逆向移动,
故答案为:抑制氯化铁水解;
③加入氧化剂把亚铁离子氧化为铁离子但不能引入新的杂质,氧化剂选择过氧化氢氧化亚铁离子的离子方程式为:2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O,
故答案为:因为将Fe2+氧化成Fe3+,方便后续沉淀时除去;
④调节溶液的pH目的是使铁离子全部沉淀,铜离子不沉淀,依据图表数据分析可知pH应为:3.2~4.7,故答案为:[3.2,4.7)或3.2≤pH<4.7;
⑤用碱式碳酸铜来调节溶液的PH,强制弱,所以离子反应方程式为:4H++Cu2(OH)2CO3 =3H2O+2 Cu2++CO2↑,
故答案为:4H++Cu2(OH)2CO3 =3H2O+2 Cu2++CO2↑.
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