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半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如图所化学

①黄磷与少量Cl

半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如图所示：（部分夹持装置略化学

水会强烈水解生成H3PO3和

（1）用于电解的食盐水需先除去其中的Ca2+、Mg2+、SO42-等杂质．某次除杂操作时，往粗盐水中先加入过量的（填化学式），至沉淀不再产生后，再加入过量的Na2CO3和NaOH，充分反应后将沉淀化学

已知：Ksp（BaSO4）=

黄铜是Zn以主要添加元素的铜合金．黄铜渣中约含Zn7%、ZnO31%、Cu50%、CuO5%，其余为杂质．处理黄铜渣可得到硫酸锌，其主要流程如下（杂质不溶于水，不参与反应）：（1）步骤Ⅰ中产生气体化学

_（填化学式）．（3）步骤Ⅰ

假设豌豆高产与低产由两对同源染色体上的等位基因A与a和B与b控制,且A和B控制高产,现在有高产和低产两个纯系杂交的F1.F1自交得F2,F2里出现了高产,中高产,中产,中低产,低产五个品系.若对F2的语文

高产倒伏小麦与低产抗倒伏小麦杂交后得到高产抗倒伏小麦,能否稳定遗传?（理由）语文

基因型为AaBbCcDdEe与AaBBCcDdEe的个体杂交后代杂合子的概率为多少（）A．132B．3132C．116D．1516 语文

1820年德贝尔钠首次使用MnO2作催化剂加热分解KClO3制备O2，当时就发现气态产物有异常气味，后来证明是因为其中含有少量C12和O3（臭氧）等杂质．已知O3的氧化性比O2更强，且与还原剂反应时化学

y-x

下列叙述正确的是（）A．果酒发酵要定期“放气”，并注意防止外界杂菌污染B．果醋制作时先通气发酵后密封发酵C．利用DNA在0.14mol/LNaCl溶液中溶解度大的特点将DNA与杂质分离D．SDS-聚语文

三氯化磷（PCl3）是一种重要的半导体材料掺杂剂．实验室要用黄磷（白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如下图所示．已知黄磷与少量Cl2反应生成PCl3，与过量Cl2反应生成PCl5．PCl3 化学

水解生成H3PO3和HCl．

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