半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如图所

Question

半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl ₃ ）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的 Cl ₂ 模拟工业生产制取PCl ₃ ，装置如图所示：（部分夹持装置略去）

已知：

①黄磷与少量Cl ₂ 反应生成PCl ₃ ，与过量Cl ₂ 反应生成PCl ₅ ；

②PCl ₃ 遇水会强烈水解生成H ₃ PO ₃ 和HC1；

③PCl ₃ 遇O ₂ 会生成POCl ₃ ，POCl ₃ 溶于PCl ₃ ；

④PCl ₃ 、POCl ₃ 的熔沸点见表：

物质                      熔点/℃                   沸点/℃

PCl ₃                       ﹣112                     75.5

POCl ₃                      2                         105.3

请回答下列问题：

（1）A装置中制氯气的离子方程式为 　　 ．

（2）B中所装试剂是 　　 ，F中碱石灰的作用有两种，分别是 　 、 　　 ．

（3）实验时，检査装置气密性后，先打开K ₃ 通入干燥的CO ₂ ，再迅速加入黄磷．通干燥CO ₂ 的作用是 　　 ．

（4）粗产品中常含有POCl ₃ 、PCl ₅ 等，加入黄磷加热除去PCl ₅ 后，通过 　　 （填实验操作名称），即可得到较纯净的PCl ₃ ．

（5）实验结束时，可以利用C中的试剂吸收多余的氯气，C中反应的离子方程式为 　　 ．

（6）通过下面方法可测定产品中PCl ₃ 的质量分数

①迅速称取1.00g产品，加水反应后配成250mL溶液；

②取以上溶液25.00mL，向其中加入10.00mL 0.1000mol/L碘水，充分反应；

③向②所得溶液中加入几滴淀粉溶液，用0.1000mol/L的Na ₂ S ₂ O ₃ 溶液滴定；

④重复②、③操作平均消耗Na ₂ S ₂ O ₃ 溶液8.40mL．

已知：H ₃ PO ₃ +H ₂ O+I ₂ ═H ₃ PO ₄ +2HI，I ₂ +2Na ₂ S ₂ O ₃ ═2NaI+Na ₂ S ₄ O ₆ ，假设测定过程中没有其他反应．根据上述数据，该产品中PC1 ₃ 的质量分数为 　 ．

Answer 1

【考点】 制备实验方案的设计．   【分析】 实验室要用黄磷（白磷）与干燥的Cl 2 模拟工业生产制取PCl 3 流程为：A装置浓盐酸和二...