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若关于X的分式方程X-4分之2等于3+4-X分之M有增根,则M的值为?理由?由题意可得X=4,下一步? 其他

数学一元二次方程应用题格式我们学的是冀教版的,在一元二次方程应用题这一章,书中的解题格式是：1.由题意可得：（列出方程）2.化简：(化为一般形式)3.解方程得：（写出方程的解）但是数学

?以（1-x）的平方=0.8

直角三角形两条直角边的长度之和为7厘米,斜边长为5厘米,设一条直角边长为X厘米,该直角三角形的两条直角边的长是多少?由题意得方程式,化成一般形式为数学

如图是某工厂苛化法生产烧碱i示意图．请回答下列问题：（y）Xi化学式．（s）生石灰可以由（填名称）高温煅烧而得，化学方程式为：CaCO3高温.CaO+COs↑CaCO3高温.CaO+COs↑．（3 化学

烈i腐蚀性，如果不慎将碱液沾

下面是工厂苛化法生产烧碱的示意图．请回答下列问题：（1）X的化学式为（2）生石灰可以由（填名称）高温煅烧而得，其反应的化学方程式为：CaO+CO2↑ 化学

下面是工厂苛化法生产烧碱的示意图．请回答下列问题：（1）X的化学式为（2）生石灰可以由（填名称）高温煅烧而得，其反应的化学方程式为：（3）操作②的名称是；结晶化学

，如果不慎将碱液沾到皮肤上，

下面是某工厂苛化法生产烧碱的示意图．请回答下列问题：（1）X为最常用的溶剂，其化学式．（2）生石灰可以由（填名称）高温煅烧而得，其反应的化学方程式为：．（3）操作①的化学

反应池循环再利用，目的是__

请回答下列问题:（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:①写出由纯制备高纯硅的化学方程式: 化学

制无水无氧。遇水剧烈反应

请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式：SiH 化学

i+3HCl．②整个制备过程

四年级简易方程题小刚和小芳计算同一个加法算式,小刚由于大意,将一个加数末尾的一个0漏掉了,计算的结果是：小刚得460,小芳得685.两个加数各式多少?记得是用方程，我不要算式！数学

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