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共找到 15 与制剂工艺B 相关的结果,耗时10 ms
下列说法不正确的是()A.胶体属于介稳体系B.工艺师利用盐酸刻蚀石英制作艺术品C.金属钠存放于煤油或石蜡油中D.硅胶可做干燥剂和催化剂的载体
化学
下列说法正确的是()A.硅酸钠溶液就是建筑行业中常用的黏合剂“水玻璃”B.工艺师利用盐酸刻蚀石英制作艺术品C.水晶项链和餐桌上的瓷盘都是硅酸盐制品D.粗硅制备单晶硅不涉
化学
氟硼酸钾(KBF4)是热焊和铜焊的助熔剂,以氟硅酸(H2SiF4,二元强酸)、硼酸[H3BO4,一元弱酸,酸根为B(OH)4-]等为原料制备氟硼酸钾的工艺流程如图所示.(1)常温下,0.05mol•L-1H2SiF4溶
化学
(3)氟硼酸钾中所含化学键的
以下是工业上用软锰矿制备高锰酸钾的一种工艺流程.①KMnO4稀溶液是一种常用的消毒剂.其消毒原理与下列物质相同的是(填代号).a.84消毒液(NaClO溶液)b.75%酒精c.苯酚
化学
试剂瓶,下列试剂保存不需要棕
富铁铝土矿(主要含有A12O3、Fe2O3、FeO和SiO2)可制备新型净水剂液体聚合硫酸铝铁[AlaFeb(OH)m(SO4)n].研究发现,当a=b时净水效果最好.工艺流程如下(部分操作和产物略):(1)A12O3与H2
化学
滤液中 c
Ⅰ.在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,废液(含有Fe2+、Fe3+、Cu2+)处理和资源回收很有意义.分析下面处理方案,回答下列问题:(1)试剂2是,固体B是,通往的气体C是.(
化学
__.Ⅱ.综合利用海水可以制
在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,废液(含有Fe2+、Fe3+、Cu2+)处理和资源回收很有意义.分析下面两种处理方案,回答下列问题:Ⅰ、利用废液再生刻蚀液(1)试剂2是,固体B是
化学
应的离子方程式: ___、
下列影响生物利用度因素中除外哪一项:( )A.
制剂工艺B
.药物粒径C.服药剂量D.药物晶型
下列影响生物利用度因素中除外哪一项:( )A.制剂工艺B.药物粒径C.服药剂量D.药物晶型
湿法制粒压片法制备片剂的工艺流程为()A.原辅料→粉碎→过筛→混合→制软材→制粒→整粒→压片B.原辅料→
湿法制粒压片法制备片剂的工艺流程为()A.原辅料→粉碎→过筛→混合→制软材→制粒→整粒→压片B.原辅料→粉碎→过筛→混合→制软材→制粒→整粒→干燥→压片C.原辅料→粉碎→过筛→混合→制软材→制粒→干燥→整粒→压片D.原辅料→粉碎→过筛→混合→制软材→制粒→干燥→压片
规定制剂规格,各组分的名称、规格、数量、以及制备工艺和质量控制等内容的文件是()A.药典处方B.协议
规定制剂规格,各组分的名称、规格、数量、以及制备工艺和质量控制等内容的文件是()A.药典处方B.协议处方C.生产处方D.医师处方
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