由能量判据（以焓变△H为基础）和熵判据(△S)组合而成的复合判据，适合于所有过程的自发性判断。公式为△H-T△S(T指开尔文温度)。若△H-T△S<0，反应自发进行。电子工业中清洗硅

Question

由能量判据（以焓变△H为基础）和熵判据(△S)组合而成的复合判据，适合于所有过程的自发性判断。公式为△H -T△S(T指开尔文温度)。若△H- T△S<0，反应自发进行。
电子工业中清洗硅片上的SiO ₂ (s)的 反应是：
SiO ₂ (s)+4HF(g)=SiF ₄ (g) +2H ₂ O(g) △H (298. 15K)= -94. 0kJ/mol  △S(298. 15K)=- 75. 8J·mol ^-1 ·K ^-1
假设△H和△S不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件。

Answer 1

T<1240K