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(2011•龙岩模拟)制作半导体时,需向单晶硅或其他晶体中掺入杂质.单晶硅内的原子是规则排列的,在两层电子间的间隙会形成如图甲所示的上下对称的匀强电场,设某空间存在上下对称
题目详情
(2011•龙岩模拟)制作半导体时,需向单晶硅或其他晶体中掺入杂质.单晶硅内的原子是规则排列的,在两层电子间的间隙会形成如图甲所示的上下对称的匀强电场,设某空间存在上下对称的匀强电场,并在该电场中的下半区域加一方向垂直纸面向里的匀强磁场,如图乙所示.电量为+q、质量为m的带电小球从上边界以初速度v0垂直电场入射.已知上下场区的宽均为d,长为L,电场强度E=| mg |
| q |
| 3 |
| 2 |
| gd |
| 3 |
| 5 |
| 4 |
| 5 |
求:
(1)小球第一次经过对称轴OO′时的速度;
(2)要使小球不越过下边界,所加磁场的磁感应强度B的最小值;
(3)若所加磁场的磁感应强度B′=
| 2m |
| qd |
| gd |
▼优质解答
答案和解析
(1)小球进入电场后做类平抛运动,在竖直方向上有:
加速度:a=
=2g
竖直方向的位移:d=
at2
得:t=
所以和速度大小为:v=
=
与竖直方向的夹角θ:tan=
=
=
可得:θ=37°
(2)小球进入下半区域时,因重力和电场力平衡,小球在洛伦兹力的作用下做匀速匀速圆周运动,设小球恰好不越过下边界,则小球在到下边界时速度的方向应与边界平行,设圆周半径为R.如图所示:
由几何关系得:
=sin37°
得:R=
d
由牛顿第二定律得:qvB=m
(1)小球进入电场后做类平抛运动,在竖直方向上有:
加速度:a=
| mg+qE |
| m |
竖直方向的位移:d=
| 1 |
| 2 |
得:t=
|
所以和速度大小为:v=
|
| 5 |
| 2 |
| gd |
与竖直方向的夹角θ:tan=
| v0 |
| vy |
| ||||
2
|
| 3 |
| 4 |
可得:θ=37°
(2)小球进入下半区域时,因重力和电场力平衡,小球在洛伦兹力的作用下做匀速匀速圆周运动,设小球恰好不越过下边界,则小球在到下边界时速度的方向应与边界平行,设圆周半径为R.如图所示:

由几何关系得:
| R−d |
| R |
得:R=
| 5 |
| 2 |
由牛顿第二定律得:qvB=m
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