（2011•姜堰市二模）近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放．蚀刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、碱性的（NH3-NH4Cl）以及传统的（HCl-FeCl3）等3种．蚀刻

Question

（2011•姜堰市二模）近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放．蚀刻液主要有酸性的（HCl-H₂O₂）、碱性的（NH₃-NH₄Cl）以及传统的（HCl-FeCl₃）等3种．蚀刻废液中含有大量的Cu²⁺，废液的回收利用可减少铜资源的流失．几种蚀刻废液的常用处理方法如下：


（1）FeCl₃型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl₂分别作为还原剂和氧化剂，可回收铜并使蚀刻液再生．发生的主要化学反应有：Fe+Cu²⁺=Fe²⁺+Cu、Fe+2H⁺=Fe²⁺+H₂↑，还有______、______．（用离子方程式表示）．
（2）HCl-H₂O₂型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：______．
（3）H₂O₂型酸性废液处理回收微米级Cu₂O过程中，加入的试剂A的最佳选择是下列中的______（填序号）
①酸性KMnO₄溶液        ②NaCl（固）          ③葡萄糖          ④甲醛
（4）处理H₂O₂型酸性废液回收Cu₂（OH）₂CO₃的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时，产品颜色发暗，其原因可能是______．
（5）碱性蚀刻液发生的化学反应是：2Cu+4NH₄Cl+4NH₃•H₂O+O₂=2Cu（NH₃）₄Cl₂+6H₂O，处理碱性蚀刻废液过程中加入NH₄Cl固体并通入NH₃的目的是______．

Answer 1

（1）FeCl3型酸性废液中含有Fe3+和Fe2+，Fe3+具有氧化性，可与Fe反应，离子方程式为Fe+2Fe3+=3Fe2+，Fe2+具有还原性，可与Cl2反应，离子方程式为2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-，故答案为：Fe+2Fe3+=3Fe2+；2Fe2++Cl2=2Fe3++2...