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实验室制取H2的反应方程式为:Zn+H2SO4=ZnSO4+H21该反应中被氧化,发生还原反应.2反应过程中转移2mol电子,生成标准状态下的H2L.3用双线桥法表示出电子转移的方向和数目化学

现有2mol金属钠，一半与氧气反应生成氧化钠，另一半与氧气反应生成过氧化钠，则上述两个氧化还原反应过程中转移的电子数之比为（）A.1：2B.2：1C.4：1D.l：l 化学

电子工业常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔，制造印刷电路板．（1）写出FeCl3溶液与铜箔发生反应的化学方程式：；若反应过程中有2mol电子发生转移，会有gCu溶解．（2）其他

，并重新获得纯净的FeCl3

用适量MnO2与10mol/L的盐酸120ml(过量)反应制取Cl2,若反应过程中有0.2mol电子发生转移,求:(1).生成的Cl2的体积(标况下)(2).被氧化的HCl的物质的量(3).若把反应生成的溶液稀释成1L,从中取100ml,向其中化学

所得沉淀的质量部分讲解.好的

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