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工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下：已知：X、高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应，Y，与X在光照或点燃条件下可反应，Z的焰色呈黄色．（1）原料B的主要成分是（写名称）化学

水溶液时，阳极材料能否用Cu

制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：（1）写出由石英砂制取粗硅的化学方程式化学

纯SiHCl3制备高纯硅的化

石英砂主要成分是SiO2，是制取高纯硅的主要原料，高纯硅又是制造计算机芯片的主要原料．制备过程涉及到如下反应：①SiO2+C3000℃Si（粗）+CO↑②Si（粗）+2Cl2450～500℃SiCl4③SiCl4+2H2高温Si 化学

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