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拟用如图装置制取干燥、纯净的气体H2、O2、CO2、HCl（图中铁架台、铁夹、气体收集装置均已略去），必要时可加热．a、b、c、d表示制取相应气体时分别加入各仪器中的试剂．abc 化学

酸 O2 双氧水

半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如图所示：（部分夹持装置略化学

水会强烈水解生成H3PO3和

半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如图所化学

①黄磷与少量Cl

三氯化磷(PCl3)是一种重要的半导体材料掺杂剂。实验室要用黄磷(白磷)与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如图所示。已知：PCl3遇O2会化学

OCl 3 ， POC

半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如图所示：（部分夹持装置略化学

会强烈水解生成 H3PO3

三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如图所示：（部分夹持装置略去）已知：①黄磷与少量Cl2反应生成PCl3，与过量Cl2反化学

O2会生成POCl3，POC

三氯化磷（PCl3）是一种重要的半导体材料掺杂剂．实验室要用黄磷（白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如下图所示．已知黄磷与少量Cl2反应生成PCl3，与过量Cl2反应生成PCl5．PCl3 化学

水解生成H3PO3和HCl．

半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）中一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如下图所示：（部分夹持装置略化学

成POCl3，POCl3溶于

半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂。实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如下图所示：（部分夹化学

成PCl 5 。PCl 3

（2010•金华模拟）实验是化学研究的基础，关于下列各装置图的叙述中，正确的是（）A．装置①是一套实验室制气装置，用于发生、干燥和收集气体，如铜屑与稀硝酸反应制取气体B．化学

能用于测量气体体积

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