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共找到 1 与常用于外延法工艺中重要的硅源．易燃 相关的结果，耗时8 ms
二氯二氢硅（SiH2Cl2）
常用于外延法工艺中重要的硅源．易燃
、有毒，与水接触易水解，沸点8.2℃．在铜催化作用下，HCl与硅在25O-260℃反应可以制得SiH2Cl2．（1）利用浓硫酸、浓盐酸为原料，
化学
氯二氢硅的化学方程式为___
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