早教吧
育儿知识
作业答案
考试题库
百科
知识分享
创建时间
资源类别
相关度排序
共找到 2 与其刻蚀反应原理如下 相关的结果，耗时22 ms
氢氟酸可用于半导体工业，也常用来蚀刻玻璃，
其刻蚀反应原理如下
：6HF+Na2SiO3→2NaF+SiF4↑+3H2O完成下列填空：（1）根据HF的（选填编号）大于H2O，可推断氟元素的非金属性强于氧元素．a
化学
定性 d
在微电子工业中NF3常用作氮化硅的蚀刻剂，工业上通过电解含NH4F等的无水熔融物生产NF3，其电解原理如图．下列说法不正确的是（）A.a电极为电解池的阳极B.阳极的电极反应式：NH4++3F
化学
体单质，该气体的 分子式是F
1
>
热门搜索：
