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想申请一个气调库的专利,但可以修改一部分装置就能有两种控制气体的方法,不知道我能不能申报两个专利.我想申请一个气调库的专利,但可以通过修改一小部分装置就能有两种控制气体成分
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想申请一个气调库的专利,但可以修改一部分装置就能有两种控制气体的方法,不知道我能不能申报两个专利.
我想申请一个气调库的专利,但可以通过修改一小部分装置就能有两种控制气体成分的方法,不知道我能不能把这个专利写成两个(都是发明专利).也就是说,气调库的主体不变,我可以通过调节装置1来达到保持气调库内气体浓度的目的,也可以用另一种装置2来达到保持气体浓度的目的.那我可不可以将主体+装置1申报一个专利,再将主体+装置2申报一个专利?请高人指点,谢谢
我想报的这个专利是气调库主体的设计比较新,装置1是比较常用的调节气体浓度的方法,而装置2是一种新的调节方法,这样也能申报两个专利吗?
我想申请一个气调库的专利,但可以通过修改一小部分装置就能有两种控制气体成分的方法,不知道我能不能把这个专利写成两个(都是发明专利).也就是说,气调库的主体不变,我可以通过调节装置1来达到保持气调库内气体浓度的目的,也可以用另一种装置2来达到保持气体浓度的目的.那我可不可以将主体+装置1申报一个专利,再将主体+装置2申报一个专利?请高人指点,谢谢
我想报的这个专利是气调库主体的设计比较新,装置1是比较常用的调节气体浓度的方法,而装置2是一种新的调节方法,这样也能申报两个专利吗?
▼优质解答
答案和解析
可以,这是两个不同的方案,但最好同一天提交.
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