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硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
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| 硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题： （1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl 3 )还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下： |
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| ①写出由纯SiHCl 3 ，制备高纯硅的化学反应方程式________________________。 ②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl 3 遇水剧烈反应生成H 2 SiO 3 、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式______________________________；H 2 还原SiHCl 3 过程中若混入O 2 ，可能引起的后果是_________________________________。 （2）下列有关硅材料的说法正确的是____（填字母）。 A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥 B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承 C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维 D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高 E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅 |
▼优质解答
答案和解析
（1）①SiHCl 3 +H 2  Si+3HCl；②SiHCl 3 +3H 2 O= H 2 SiO 3 ↓+3HCl↑+H 2 ↑ 氧气与氢气混合，可能引起爆炸，氧气可能会氧化SiHCl 3 ，（2）BC |
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