会造成臭氧层空洞的物质有那些

Question

会造成臭氧层空洞的物质有那些

Answer 1

答：一、简介：消耗臭氧层物质(ODS)主要来源于人工合成的一些含有卤族元素的化合物,它们是造成平流层臭氧损耗的最重要因素,这些造成臭氧层破坏的化合物统称为臭氧层损耗物质.目前的臭氧层损耗物质包括:1、氟氯化碳和哈龙,主要是氟利昂CFC－11、CFC－12等和哈龙Halon－1211、Halon－1301、Halon－2402；2、其他全卤化氟氯化碳,如CFC－13、CFC－111等10种化合物；3、四氯化碳和甲基氯仿；4、氟氯烃类,如HCFC－21、HCFC－22等共74种；5、甲基溴 等.
二、已有相关国际议定书：《关于消耗臭氧层物质的蒙特利尔议定书》见其中附件B：具有消耗臭氧 潜能值 的物质列表如下（后面的附件C则是相关的过渡性物质）
附件B：第一类
———
CF3CL （CFC－13） 1．0
C2FCL5 （CFC－111） 1．0
C2F2CL4 （CFC－112） 1．0
C3FCL7 （CFC－211） 1．0
C3F2CL6 （CFC－212） 1．0
C3F3CL5 （CFC－213） 1．0
C3F4CL4 （CFC－214） 1．0
C3F5CL3 （CFC－215） 1．0
C3F6CL2 （CFC－216） 1．0
C3F7CL （CFC－217） 1．0
第二类
———
CCL4 四氯化碳 1．1
第三类
———
C2H3CL3※ 1,1,1－三氯乙烷 0．1
（甲基氯仿）
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－※本分子式并不指1,1,2－三氯乙烷.
附件C：
过渡性物质
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类 别 物 质 消耗臭氧
潜能值
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
第一类
———
CHFCI2 （HCFC－21）
CHF2CI （HCFC－22）
CH2FCI （HCFC－31）
C2HFCI4 （HCFC－121）
C2HF2CI3 （HCFC－122）
C2H3F3CI2 （HCFC－123）
C2HF4CI （HCFC－124）
C2H2FCI3 （HCFC－131）
C2H2F2CI2 （HCFC－132）
C2H2F3CI （HCFC－133）
C2H3FCI2 （HCFC－141）
C2H3F2CI （HCFC－142）
C2H4FCI （HCFC－151）
C3HFCI6 （HCFC－221）
C3HF2CI5 （HCFC－222）
C3HF3CI4 （HCFC－223）
C3HF4CI3 （HCFC－224）
C3HF5CI2 （HCFC－225）
C3HF6CI （CFC－226）
C3H2FCI5 （HCFC－231）
C3H2F2CI4 （HCFC－232）
C3H2F3CI3 （HCFC－233）
C3H2F4CI2 （HCFC－234）
C3H2F5CI （HCFC－235）
C3H3FCI4 （HCFC－241）
C3H3F2CI3 （HCFC－242）
C3H3F3CI2 （HCFC－243）
C3H3F4CI （HCFC－244）
C3H4FCI3 （HCFC－251）
C3H4F2CI2 （HCFC－252）
C3H4F3CI （HCFC－253）
C3H5FCI2 （HCFC－261）
C3H5F2CI （HCFC－262）
C3H6FCI （HCFC－271）
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