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电子工业常用氯化铁浓溶液蚀刻铜质线路板,回收铜并再生刻蚀液.刻蚀后的残液含有Fe2+、Cu2+、Fe3+等.其流程如图所示.(1)加入铁粉后发生反应的离子方程式为:;.(2)最初所
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电子工业常用氯化铁浓溶液蚀刻铜质线路板,回收铜并再生刻蚀液.刻蚀后的残液含有Fe2+、Cu2+、Fe3+等.其流程如图所示.

(1)加入铁粉后发生反应的离子方程式为:___;___.
(2)最初所用FeCl3刻蚀液浓度为 3mol/L,使用1L这样的刻蚀液腐蚀掉32g铜后,刻蚀后残液c(Fe3+)为___mol/L;经过再生后,新的刻蚀液浓度为___ mol/L(反应过程中溶液体积变化忽略不计).

(1)加入铁粉后发生反应的离子方程式为:___;___.
(2)最初所用FeCl3刻蚀液浓度为 3mol/L,使用1L这样的刻蚀液腐蚀掉32g铜后,刻蚀后残液c(Fe3+)为___mol/L;经过再生后,新的刻蚀液浓度为___ mol/L(反应过程中溶液体积变化忽略不计).
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答案和解析
(1)加入过量铁粉后,铁离子和铜离子都与铁粉反应,反应的离子方程式为:2Fe3++Fe=3Fe2+、Cu2++Fe=Fe2++Cu,
故答案为:2Fe3++Fe=3Fe2+;Cu2++Fe=Fe2++Cu;
(2)32g铜的物质的量为:
=0.5mol,根据反应2Fe3++Cu=Cu2++2Fe2+可知,0.5mol铜完全反应消耗铁离子的物质的量为:0.5mol×2=1mol,则反应消耗的铁离子浓度为:
=1mol/L,故腐蚀后残夜中铁离子浓度为:c(Fe3+)=3mol/L-1mol/=2mol/L;
腐蚀液中含有:n(Fe3+)=c(Fe3+)×1L=2mol、n(Cu2+)=0.5mol、n(Fe2+)=2n(Cu2+)=1mol,
加入过量铁粉后,根据反应2Fe3++Fe=3Fe2+、Cu2++Fe=Fe2++Cu可知,溶滤液中含有亚铁离子的总物质的量为:n(Fe2+)=
n(Fe3+)+n(Cu2+)+n(Fe2+)=2mol×
+0.5mol+1mol=4.5mol,
根据质量守恒,通入氯气后新的腐蚀液中含有铁离子的物质的量为:n(Fe3+)=n(Fe2+)=4.5mol,
该滤液中铁离子浓度为:
=4.5mol/L,
故答案为:2; 4.5.
故答案为:2Fe3++Fe=3Fe2+;Cu2++Fe=Fe2++Cu;
(2)32g铜的物质的量为:
32g |
64g/mol |
1mol |
1L |
腐蚀液中含有:n(Fe3+)=c(Fe3+)×1L=2mol、n(Cu2+)=0.5mol、n(Fe2+)=2n(Cu2+)=1mol,
加入过量铁粉后,根据反应2Fe3++Fe=3Fe2+、Cu2++Fe=Fe2++Cu可知,溶滤液中含有亚铁离子的总物质的量为:n(Fe2+)=
3 |
2 |
3 |
2 |
根据质量守恒,通入氯气后新的腐蚀液中含有铁离子的物质的量为:n(Fe3+)=n(Fe2+)=4.5mol,
该滤液中铁离子浓度为:
4.5mol |
1L |
故答案为:2; 4.5.
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