如图所示,质量m1=0.1kg,电阻R1=0.1Ω,长度L=0.4m的导体棒ab横放在U型金属架上,框架质量m2=0.2kg,放在绝缘水平面上,与水平面间的动摩擦因数μ=0.2,相距0.4m的MM′、NN′相互平行,电阻不计
如图所示,质量m1=0.1kg,电阻R1=0.1Ω,长度L=0.4m的导体棒ab横放在U型金属架上,框架质量m2=0.2kg,放在绝缘水平面上,与水平面间的动摩擦因数μ=0.2,相距0.4m的MM′、NN′相互平行,电阻不计且足够长.电阻R2=0.1Ω的MN垂直于MM′.整个装置处于竖直向上的匀强磁场中,磁感应强度B=0.5T.垂直于ab施加F=2N的水平恒力,ab从静止开始无摩擦地运动,始终与MM′、NN′保持良好接触.当ab运动到某处时,框架开始运动.此过程中MN上产生的热量Q=0.1J,设框架与水平面的最大静摩擦力等于滑动摩擦力.则此时棒ab速度v和此过程棒ab发生的位移x各是(g取10m/s2)( )
A. 3m/s,0.275m
B. 2m/s,0.2m
C. 3m/s,0.325m
D. 2m/s,0.325m
如图所示,质量m1=0.1kg,电阻R1=0.1Ω,长度L=0.4m的导体棒ab横放在U型金属架上,框架质量m2=0.2kg,放在绝缘水平面上,与水平面间的动摩擦因数μ=0.2,相距0.4m的MM′、NN′相互平行,电阻不计且足够长.电阻R2=0.1Ω的MN垂直于MM′.整个装置处于竖直向上的匀强磁场中,磁感应强度B=0.5T.垂直于ab施加F=2N的水平恒力,ab从静止开始无摩擦地运动,始终与MM′、NN′保持良好接触.当ab运动到某处时,框架开始运动.此过程中MN上产生的热量Q=0.1J,设框架与水平面的最大静摩擦力等于滑动摩擦力.则此时棒ab速度v和此过程棒ab发生的位移x各是(g取10m/s2)( )

A. 3m/s,0.275m
B. 2m/s,0.2m
C. 3m/s,0.325m
D. 2m/s,0.325m
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