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某反应体系中的物质有:A1203、AlN、C、N2、C02(1)请将A1203之外的反应物和生成物分别填入以下空格中(2)当体系中有6mol还原剂被氧化时,转移.
化学
某反应体系中的物质有:A12O3、AlN、C、N2、CO2(1)请将A12O3之外的反应物和生成物及配平系数分别填入以下空格中:①②③④(2)当体系中有6mol还原剂被氧化时,转移
化学
)广泛应用于电子、陶瓷等工业
某高温还原法制备新型陶瓷氮化铝(AlN)的反应体系中的物质有:Al2O3、C、N2、AlN、CO.(1)请将AlN之外的反应物与生成物分别填入以下空格内,配平,并标出电子转移的方向和数目AlN+3HCl
其他
__.A、前一方法中的 Al
某反应体系中的物质有NaOH、Au2O3、Na2S4O6、Na2S2O3、Au2O、H2O.
请将反应物和生成物填入下空格
.Au2O3+_____+____→______+____+____Na2S2O3;H2O;Na2S4O6;Au2O
化学
:Na2S2O3;( )
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