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(2010•东城区三模)用a、b两束单色光分别照射到同一双缝干涉装置上,在距双缝恒定距离的屏上得到如图所示的干涉图样,其中图(甲)
是a光照射时形成的图样
,图(乙)是b光照射时形
物理
光电效应.则b光照在该金属上
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