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请回答下列问题:（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:①写出由纯制备高纯硅的化学方程式: 化学

制无水无氧。遇水剧烈反应

硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图所示：（1）写出由化学

l3+H2 高温 . Si+

制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：（1）写出由石英砂制取粗硅的化学方程式化学

纯SiHCl3制备高纯硅的化

请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式：SiH 化学

i+3HCl．②整个制备过程

硅（Si）是太阳能电池和电脑芯片不可缺少的材料．利用石英砂（主要成分为二氧化硅）生产高纯硅的流程图如图（整个制备过程必须达到无水、无氧气）．回答下列问题：（1）请写出由纯S 化学

格控制无水无氧气．SiHCl

用简便方法计算．（必须写出主要过程）（23-12+38）×241.1-411-211-511．数学

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