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硅单质及其化合物应用范围很广．制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图1：（1）第①步制备粗硅的化学方程化学

2反应制备纯硅的装置如图2所

晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：①高温下用过量的碳还原二氧化硅制得粗硅，同时得到一种可燃性气态；②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3（Si+3HCl=SiHCl3+H2）化学

iHCl3能与水强烈反应，在

制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：（1）写出由石英砂制取粗硅的化学方程式化学

纯SiHCl3制备高纯硅的化

求解化学方程式硅的提纯原理是在高温下让粗硅与氯气反应,其产物在高温下被氢气还原,从而得到较纯的硅. 化学

（10分）通常以石砂为原料制取单质硅。回答下列有关问题：4-1．写出石英砂与焦炭在高温下反应制粗硅的化学方程式，得到的是粗硅，可能的两个原因是什么？化学反化学

与氢气反应即得到纯硅，这是由

下列关于工业生产的说法中，不正确的是（）A.工业上，用焦炭在电炉中还原二氧化硅得到含杂质的粗硅B.生产普通水泥的主要原料有石灰石、石英和纯碱C.工业上将粗铜进行精炼，应化学

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