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超细氮化铝粉末（AlN）被广泛应用于大规模集成电路生产领域．其制取原理为：Al2O3+3C+N2高温2AlN+3CO．已知氮化铝能与水反应生成氢氧化铝和氨气．（1）化学

究性学习小组认为在制取氮化铝

氮化铝是一种新型的无机非金属材料，被广泛应用于集成电路生产领域．在氮气流中由氧化铝与焦炭在电炉中加热制得．方程式为：Al2O3+N2+3C高温.2AlN+3CO，反应中原料配比不当或反应不化学

：（1）探究氮化铝与酸的反应

（14分）氮化铝是一种新型的无机非金属材料，被广泛应用于集成电路生产领域。在氮气流中由氧化铝与焦炭在电炉中加热制得。原料配比不当或反应不完全等因素都会造成产品中含有碳化学

3C 2AlN+3CO中

（2011•泉州一模）氮化铝是一种新型的无机非金属材料，被广泛应用于集成电路生产领域．在氮气流中由氧化铝与焦炭在电炉中加热制得．原料配比不当或反应不完全等因素都会造成产品中化学

2AlN+3CO中，氧化剂是

氮化铝（AIN，遇水易水解）广泛应用于集成电路生产领域．某研究小组利用氮气、氧化铝和活性炭制取氮化铝，设计如图1所示实验装置．请回答：（1）图1中用饱和NaNO2溶液与NH4Cl溶液加热制化学

用小写字母a→g填写）：__

氮化铝（AlN）是一种新型无机材料，广泛应用于集成电路生产领域．某化学研究小组利用制取氮化铝，设计图1验装置．试回答：（1）实验中用饱和NaNO2与NH4Cl溶液制取氮气的化学方程式为化学

NaNO2 饱和溶液蒸发

若实验中测得样品的质量为wg,氨气的体积为aL(标况下),则样品中AlN的质这是全题氮化铝（AlN）是一种新型无机材料,广泛应用与集成电路生产领域.某氮化铝中含有碳或氧化铝杂质,现用图Ⅰ 化学

O＝NaAlO2＋NH3↑,

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