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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：已知：Ⅰ．（R，R′为烃基或氢）Ⅱ．（R，R′为烃基）（1）A分子中含氧官能团名称为．（2）羧酸X的电其他

．加聚反应 b．酯化反

合成光刻胶的一种路线如下：Ⅲ．RCOOH+CHCHRCOOCH=CH2回答下列问题（1）光刻胶中所含官能团的名称是＿＿＿＿＿＿。（2）D+G→光刻胶的化学方程式为＿＿＿＿＿＿，该化学

（3）H是C的同分异构体

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