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工业上用“三氯氢硅还原法”提纯粗硅，工艺流程如图所示：(1)工业生产粗硅的主要原理是(用化学方程式表示)：．(2)若在制粗硅的过程中同时生成了碳化硅，且二者的物质的化学

)除上述反应外，还伴随着副反

工业上用“三氯氢硅还原法”，提纯粗硅的工艺流程如图所示：（1）三氯氢硅的制备原理：Si（s）+3HCl（g）⇌SiHCl3（g）+H2（g）△H=-210kJ/mol工业上为了加快SiHCl的生成速率而又不降低硅的转化学

，还伴随着副反应：Si（s）

我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法．由于三氯氢硅还原法具有一定优点，被广泛应用．其简化的工艺流程如图所示：（1）制备三氯氢硅的反应化学

反应有：Si（s）+4HCl

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