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工业上用“三氯氢硅还原法”，提纯粗硅的工艺流程如图所示：（1）三氯氢硅的制备原理：Si（s）+3HCl（g）⇌SiHCl3（g）+H2（g）△H=-210kJ/mol工业上为了加快SiHCl的生成速率而又不降低硅的转化学

，还伴随着副反应：Si（s）

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