磁控溅射中为什么不能在靶的上方加一平行磁场?但如果针对靶材的面积不是很大，例如矩形靶，（这样对磁场强度要求就不是很高了），并且磁场利用率还可以得到提高。

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磁控溅射中为什么不能在靶的上方加一平行磁场?
但如果针对靶材的面积不是很大，例如矩形靶，（这样对磁场强度要求就不是很高了），并且磁场利用率还可以得到提高。

▼优质解答

答案和解析

在靶的上方加磁场在理论上是可以的,但是有两点需要注意：首先磁场必须与靶面距离很近,并且需要足够的磁场强度.其次,产生磁场的磁源不可以对溅射环境产生影响.
在现实情况下,磁源不在溅射范围内并且能够在靶表面产生足够磁场强度的很不容易实现,所以在靶上方的平行磁场一般不考虑.
哦,你是这个意思,这样,你怎么控制其余部位的磁场?也就是说靶材表面以外不能有磁场,比如平面靶边缘等地方,如果有的话溅射过程中便会产生杂质.

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